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第884章 浸润式duv光刻机（第2页）

而浸润式技术即在光刻机中，采用水为介质，让193nm波长的光线，进入水中进行折射后，让波长变成132纳米，从而实现从45nm-10nm级别的光刻。

墨塔微电在之前的时候，自然也是搞的干式光刻机，而在干式光刻机领域，康尼和能佳属于超级巨头。

墨塔微电只能够排在第三位。

至于说阿斯麦此时还只是一家小公司。

上一世，阿斯麦就靠着浸润式DUV光刻机将康尼和能佳给彻底的踩在脚下的。

EUV光刻机的研发成功，才是彻底成就了阿斯麦在光刻机领域的霸主地位。

“浸润式技术加上第四代光源，我们预计，能够让光刻制程推进到28纳米甚至10纳米以下。”

陈怀庆听着介绍，不由的捏着下巴，上一世的时候，目光都盯着EUV光刻机去了，还真的没太怎么注意，EUV光刻机之前，光刻机到底是什么。

但是陈怀庆知道，EUV光刻机在全球的出货量并不算大，或者说能够用到EUV光刻机的芯片产品，还是很少。

价格昂贵，消费者有些接受不了。

而且当时的时候，民用电脑、手机，都是出现了性能过剩的情况。

像是手机，256G的内存，这么大的内存，拿来做什么啊？

除非，是天天拍照，照片还不删除。

即使如此，也很难存满。

一张照片算3M，256G也是能够存上8万多张照片。

考虑到手机内其他程序需要的内存，打个对折，就4万张照片。

平均每天拍上10张照片，一年就是3650张照片，拍4万张照片得要10年。

一部手机，很显然用不到十年。

手机硬件性能过剩，过剩得还挺多。

陈怀庆翻看着浸润式技术的资料，这条技术路线是在1987年的时候由林本建提出来的。

但是在很长时间里面，大家并没有对此有太多的关注或者考虑。

很简单的原因，干式光刻机依旧在高速发展。

直到最近，才是陷入到了一个颈瓶，推进难度稍稍变大了一些。

但是此时大家并没有改弦易辙的想法，157纳米波长的研发在之前已经投入了那么多钱进去，想要更改技术路线，意味着什么，根本就不用多说。

之前投入的钱，全部都打水漂了。

这个时候，谁敢做决定。

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再者说了，霓虹的企业，那尿性谁都是知道的。