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第37章 1nm光刻机正式开始研发（第2页）

那种可怕的东西？

怎么做到的？

不是，陆隐的脑子是怎么长的？

现在的年轻人，都这么可怕吗？

曾泉感觉人都麻了，被惊得说不出话，他现在算是明白，赵光誉这个老家伙，为什么一定要让他来监工实验室了。

不过为什么就不能提前透露一点，让他一直蒙在鼓里，是怕他乱说？

他是那种大嘴巴的人吗？

给几个孩子都签了保密协议，也都透露了不少内幕，就是不跟他说，是故意看他出丑的吧！

真是可恶！

曾泉在心里把赵光誉骂了好几轮，但还是有些开心，说到底老赵头对他还是有点子感情的，居然这这等美差都给自已了。

转头环顾一周，发现京大的李教授和他的研究生们今天都没有来，看来这事不仅他一人被瞒着。

这几个家伙还不知道他们错过了什么吧？

这样一想，心里更加开心了。

办公室。

陆隐将门反锁后，躺在椅子上，让意识彻底沉入了脑海。

“小A，把关于1nm光刻机的资料全部调出来。”

陆隐说道。

【好的】

脑海中，随着小A声音的出现，一沓厚厚的资料出现在脑中的光晕里。

陆隐手指一点，资料缓缓摊开，漂浮在眼前。

首先就是光刻机的总体结构，大概分为照光系统，掩模台系统，自动对准系统，调平调焦对准系统，框架减震系统……等。

而光刻机的整个结构中，最难的地方在于高精度的光源和光刻胶、镜头、对准技术等。

光刻机的核心难点在于光源技术，特别是极紫外线光刻机的光源技术。

在极紫外线技术出现之前，深紫外线光刻机是主流，它们使用193纳米波长的短波紫外线。

而极紫外线光刻机则使用13.5纳米的极紫外线，这要求极高的精度和稳定性。

另外，光刻胶是光刻过程中的关键材料，其性质和特性对芯片制造有重大影响。

光刻胶的厚度、硬度、粘度等属性都需要精确控制，以实现高精度的图案转移。

镜头技术也很重要，光刻机的镜头需要极高的纯度和精度，以确保图案的精确投影，这涉及到光学误差的控制，要求系统具有极高的精度。

除此之外，还有对准技术。

在光刻过程中，将掩膜上的图案精准对位到硅片上是关键步骤，这需要高精度的光学、机械和计算机控制技术。

此外，光刻机对工作环境要求也是极为严格，光刻机的工作环境必须绝对无尘，以确保芯片生产的精度和质量，同时，工作台必须具有高精度，以确保多次曝光和对准时的高度准确性。

其中的技术成本和难度也是极大的，光是技术领域就涉及光学、机械、电子、计算机等多个领域。

用到的材料和设备成本也是极为高昂，且制造周期极长，总的来说，这是一项比制作激光武器还要精细且费精力的研发。

但，1nm光刻机的研发，势在必行！

这是华国想要解除西方列国科技封锁的重要一步，无论失败多少次，都必须要做到！

一个小时后，陆隐拿着厚厚一沓资料打开了办公室的门。